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铬溅射靶材

名称:铬 化学式:Cr 密度: 7.14g/cm3

铬溅射靶材

制造工艺:热等静压

化学式 : Cr

熔点 :  ℃

密度:7.14g.cm3

规格 : 最大 4000mm;直径:<=300mm ;或者根据客户要求定制

纯度 : 99.5% ; 99.7% ;99.8% ;99.9% ; 99.95% 

晶粒尺寸 <50um


铬(Cr)涂层的硬材料能最佳地保护发动机部件,如活塞环,防止过早磨损,从而延长重要发动机部件的使用寿命。铬用作DLC涂层(类金刚石碳)的结合层,例如在吊桶挺杆上。此外,当用作装饰涂层时,我们的铬给手表、电子产品、家用电器的操作元件和一系列其他产品带来诱人的光泽。
此外,用作装饰涂料时,我们的铬给手表、电器和电子产品、操作元素的其他产品,一个有吸引力的光泽。

产品名称铬溅射靶材
符号Cr
纯度99.5%,99.8%,99.9%,99.95%
形状平面靶、旋转靶、圆弧靶
工艺热等静压,喷雾
应用玻璃涂层和装饰,加工涂层,实验室研究,半导体和微电子


Cr 矩形靶材

Chromium Sputtering targets



请将您的要求和以下详细信息发送到“sales@mdlmaterials.com”。 

1. 尺寸/公差 ( 或者图纸 )

2. 纯度

3. 数量




























Cr Arc Target

Chromium Sputtering targets








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1. Size /Tolerance ( or drawing )

2. Purity

3. Quantity

































Cr Rotary Target

Manufacturing Process SprayedHIP
Content Chromium Chromium
 Purity 99.5%~99.8% 99.5%~99.95%
 Relative Density >95.0% >99.0%
 Grain Size <100um <50um
TypeRotary  Rotary and Planar and Arc 
 Dimension Max Length 2000mm,Max Thickness 6mm OD≤300 Max Length 2000mm

Process Comparsion between Spray Cr rotary target and HIP Cr rotary Target


Spray Cr targetHIP Cr Target
Oxygen Content8000ppm80ppm
Relative Density≥95%≥98%
Purity99.599.5%~99.95%
Grain Size≤100um<50um
Uniformitya) larger difference at axial densityb) The uniformity of the target can’t be guaranteed a)High uniformity of the whole targetb)Density is close to the extrusion density of pure metal ,the rotary target has a uniform densityc)No loose zoned)No dark zonee)High uniformity at the sputtering material at top ,middle and bottom partf)High uniformity at the thickness and color of the PVD coating g)Nigh uniformity of the L、a、b at the top,middle and bottom part . 
PVD Current DensityCan’t reach long working hours at large currentLong working hours under high-power 




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产品名称: 铬溅射靶材

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