硅溅射靶是一种非常重要的功能材料，主要用于通过磁溅射工艺沉积SiO2、Si3N4等介电层。这些薄膜具有优异的硬度、光学性能、介电性能、耐磨性和耐腐蚀性等特点，广泛应用于液晶透明导电玻璃、LOW-E建筑玻璃和微电子领域。
| 产品名称 | 硅溅射靶材 |
| 符号 | Si |
| 纯度 | >=99.99% |
| 形状 | 平面靶、旋转靶、圆弧靶 |
| 型号 | P 或者 N 型 |
| 绑定服务 | B允许绑定 |
| 应用 | 玻璃涂层和装饰实验室研究半导体和微电子 |
形状:圆形,长方形
目前，我们的标准圆靶尺寸范围从直径1“到20”，矩形靶的长度可达2000mm，根据金属的不同，可以单件或多件制造。
贮存及运输条件:贮存于干燥处，避潮，避高温。
硅平面靶材
硅旋转靶材
请将您的要求和以下详细信息发送到“sales@mdlmaterials.com”。
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2. 纯度
3.数量
