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钛溅射靶材

我们提供材料作为溅射靶和电弧阴极在所有常见的尺寸和格式。
钛靶材是用于CD-ROM、装饰、平板显示器、功能性涂料一样好其他光学信息存储空间工业、玻璃涂层

钛溅射靶材


产品名称钛溅射靶材
符号Ti
纯度99.7%,99.8%,99.99%,99.995%
形状平面靶、旋转靶、圆弧靶
工艺锻造
应用玻璃涂层和装饰,工具,涂层,实验室研究,半导体和微电子,平板显示,磁数据存储,太阳能光伏


钛涂层应用的反应磁控溅射或电弧蒸发过程。我们提供材料作为溅射靶和电弧阴极在所有常见的尺寸和格式。
钛靶材是用于CD-ROM、装饰、平板显示器、功能性涂料一样好其他光学信息存储空间工业、玻璃涂层

钛平面靶材

Titanium Sputtering Target

钛弧形靶材

Titanium Sputtering Target

钛旋转溅射靶

Titanium Sputtering Target


请将您的要求和以下详细信息发送到“sales@mdlmaterials.com”。

1. 尺寸/公差(或图纸)

2. 纯度

3.数量




产品名称: 钛溅射靶材

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