脉冲激光沉积

脉冲激光沉积(PLD)是一种物理气相沉积(PVD)技术，其中高功率脉冲激光束集中在一个真空室，以打击靶材的材料沉积。这种材料从靶上蒸发(在等离子体羽流中)，沉积在基板上形成一层薄膜(例如面向靶的硅片)。这一过程可以在超高真空或背景气体的存在下发生，例如在沉积氧化物以充分氧化所沉积的薄膜时通常使用的氧。

PLD的过程一般可以分为五个阶段:

● 靶材表面的激光吸收

● 激光烧蚀靶材材料并产生等离子体

● 等离子体动力学

● 烧蚀材料在基体上的沉积

● 薄膜在基体表面的成核和生长