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独立式GaN基片(定制尺寸)

我们可以提供高温超导薄膜基材、磁性薄膜基材、铁电薄膜基材、半导体晶体、光学晶体、激光晶体材料,同时为国内外高校和科研机构提供定向、晶体切割、研磨、抛光等加工服务。

独立式GaN基片(定制尺寸)

规格

项目GaN-FS-10GaN-FS-15
尺寸10.0mm x 10.5mm14.0mm x 15.0mm
孔洞密度A级0 cm-2
B 级≤2cm-2
厚度Rank 300300± 25um
Rank 350350± 25um
Rank 400400± 25um
晶向C-axis(0001)±0.5°
TTV(总厚度变化)≤15um
BOW≤20um
型号N-type
Semi-Insulating
电阻率(300K)<0.5Ω.cm>106Ω.cm
位错密度Less than 5 x 10cm-2
可用面积>90%
抛光

正面: Ra<0.2nm.Epi-ready 抛光

反面:好

包装包装在100级洁净室环境中,在氮气环境下的单个晶圆容器中。

Free-standing GaN Substrate (Customized Size)

5.0mm x 5.5mm is available and other size can be customized.

ItemGaN-FS-N-1.5
DimensionsΦ25.4mm±0.5mmΦ38.1mm± 0.5mmΦ40.0mm ±0.5mmΦ45.0mm ±0.5mm
Marco Defect DensityA Level

≤2cm-2

B Level>2cm-2
Thickness350±25um
OrientationC-axis(0001)±0.5°
Orientation

(1-100)±0.5°

8±1mm

(1-100)±0.5°

12±1mm

(1-100)±0.5°

14±1mm

(1-100)±0.5°

14±1mm

Secondary Orientation Flat

(11-20)±3°

4±1mm

(11-20)±3°

6±1mm

(11-20)±3°

7±1mm

(11-20)±3°

7±1mm

TTV(Total Thickness Variation)≤15um
BOW≤20um
Conduction TypeN-TypeSemi-Insulating
Resistivity(300K)<0.5Ω.cm>106Ω.cm
Dislocation DensityLess than 5 x 106 cm-2
Useable Surface Area>90%
Polishing

Front Surface : Ra<0.2nm. Epi-ready polished

Back Surface: Fine ground

PackagePackage in a class 100 clean room environment ,in single wafer containers ,under a nitrogen atmosphere .

Free-standing GaN Substrate (Customized Size)

产品名称: 独立式GaN基片(定制尺寸)

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